Вакуумные печи для нанесения — устройства и оборудование для напыления различных материалов на субстрат из керамики, металла, стекла и т.п. /KWS, Чехия/

Вакуумная сушильная печь

Двухкамерная вакуумная сушильная печь для производства свитковых конденсаторов. В шестнадцати шагах можно регулировать ход температуру, величину вакуума и впуск технических газов в выбранном течении. Для измерения температуры используется шесть точных датчиков в каждой камере. Максимальная температура до 350°С.

1

Каждая рабочая камера содержит 18 позиций для загрузки. Распределение температуры в камере осуществляется с использованием шести независимых нагревательных устройств, которые управляются отдельно от расположенных датчиков температуры.

 

Вакуумная печь PZ 810 до температуры 1400°C

Вакуумная печь используется для тепловой обработки загрузки при высоких температурах и составе остаточного газа. Печь позволяет точную настройку увеличения задержки или снижение температуры, и этот процесс может быть выполнен в высоком вакууме или определенном давлении ниже атмосферного или сверхдавлении с продувом техническим газом.

1

Нагрев загрузки осуществления при помощи молибденового нагревателя. Эвакуация камеры и исчерпание остаточного газа обеспечивает двухступенчатый эвакуационный агрегат, оснащен двумя сухими или масляными насосами. При высоком вакууме могут быть термически обработаны и высоко чувствительные загрузки, реагирующее на окисление.

2

Предназначение и применение печей

Печи позволяют тепловую обработку металлических материалов в вакууме или в среде инертных газов. Технология обработки загрузки в вакуумной печи полностью соответствует требованиям защиты окружающей среды. Печи предназначены, прежде всего, для светлого отжига, закалки инертным газом, отпуска стали, капиллярной пайки, дегазации, и в ограниченной мере литье в вакууме.

Печи можно использовать для тепловой обработки и пайки конструкционных, жаропрочных, жаростойких и коррозиестойких сталей, быстрорежущей стали, магнетических материалов, большинства цветных металлов и специальных сплавов.

Технические данные

Максимальная мощность 40 кВт
Отопительное пространство, диаметр х высота 362 х 470 мм
Максимальный размер загрузки х высота 330 х 380 мм
Максимальный вес загрузки 50 кг
Максимальная рабочая температура печи 1350оС
Предельное давление (пустая камера без газа) 7х10-4 Па
Макс. избыточное давление охлаждающего газа 0,07 Мпа
Расход охлаждающей воды 1,5 м3/час
Вес печи 1300 кг

Указанные параметры одинаковые для обеих типов печей. У типа печи PZ 865 возможно закалять большие детали по причине встроенного охладителя внутри рабочей камеры и вентилятора в верхней части реципиента и трехступенчатого отсасывания (ротационный насос, насос Рутса и диффузионный насос). Это дальше позволяет 10 раз сокращать цикл охлаждения по сравнению с типом PZ 810.

У всех типов печей существует возможность приспособления по заданию заказчика.

На печи распространяется гарантия один год.

Мы обеспечиваем гарантийный и послегарантийный ремонт.

Срок поставки: по договору

Описание системы управления вакуумной печи

Приспособление шкафа управления и управления вакуумных печей  PZ 810.

Заключается в замене и модернизации части электрического шкафа печи. Новая система состоит из двух основных частей. Первую часть представляет панель управления и изображения, которая устанавливается на переднюю часть шкафа на место, где находятся старые элементы управления.

Вторая часть системы управления будет устанавливаться внутри шкафа.  Это касается главным образом системы управления. На данном модуле находятся разъемы для коммуникацией со шкафом. Перестройка шкафа осуществляется без нарушения оригинальной конструкции электрического шкафа печи.

На пульте управления, который находится на передней стороне шкафа, указано схематическое изображение схемы всей механической части вакуумной печи. Это значит, что здесь видны вакуумные части и округа охлаждения. Вся схема дополнена сигнализационными  LED лампочками для определения состояния обозначенной части оборудования и дальше  LED дисплей для изображения актуальных температур, времени, шага и мощностей. Следующей частью на панели управления является LCD монитор с контактным экраном. На этом мониторе изображается несколько окон, которые служат для изображения трендов процессов нагрева загрузки или для освобождения камеры и для настройки всех функций и программ.

В нижней части панели управления находятся основные кнопки для управления режимов вакуумной печи.

Описание монитора для настройки EasyView

Этот монитор находится в правом верхнем углу панели управления. Монитор цветной LCD с размером диагонали 8“ дополнен контактной клавиатурой сопротивления. Изобразительная среда образована окнами, которые разделены в зависимости от функций настройки или изображения.

В первом окне изображается процесс откачивания камеры, состояние вакуумной части печи, тип  измерителя, который моментально измеряет давление в камере или емкости вакуума.

Благодаря указанному окну можно полностью следить за процессом откачивания рабочей камеры и обнаруживать случайные проблемы, которые могут возникнуть например влиянием нежелательной дегазации незнакомого материала или не герметичности печи.

Во втором окне возможно благодаря изображенным процессам контролировать процедуру отопления печи или мощность отопления. Дальше здесь изображается состояние  PID регуляторов и других функций, которые были настроены.

В третьем окне настраиваются рецептуры.  Возможно настроить до 20 программ по 8 шагам управления температурой. Эти данные записываются в память системы и выдержат без питания как минимум 10 лет.

Четвертое окно служит в качестве  производственного журнала. Здесь возможно узнать течение прошлых процессов или аварийную сигнализацию помех или состояний.

Последнее окно используется для сервисной настройки и контроля всех частей оборудования. Здесь изображаются состояния вакуумных измерителей, их напряжение, возможно настраивать оффсеты или проверять и настраивать состояния температурных  датчиков.

Описание управляющей программы отопления вакуумной печи

Одной из проблем стандартных регуляторов температуры является управление нагрева загрузки в вакуумной аппаратуре. Эта проблема отличается главным образом длинной реакцией между заданием мощности со стороны регулятора и контролем температуры со стороны датчика (термоэлементы). Из-за того, что энергия из отопительных элементов переносится из 92% оптическими лучами и не посредством медиума, как обычно у стандартных атмосферических печей – воздух, аргон или другие газы и жидкости.

Для решения указанной проблемы была придумана система с несколькими основными модулями для управления нагрева в вакууме.

Одним из основных модулей является так называемый  PID регулятор. Эта система может содержать до 4 степеней. Они используются для регуляции мощности на основе заданной и актуальной температуры. Их функции плавно переключаются для определенных температурных диапазонов, потому что снабжение мощности для отопительных элементов на основе повышения температуры, не линейное.

Второй основной модуль регулятора  имеет обозначение Memory Filter. Он используется для калибровки увеличения или уменьшения температуры. В течение отопления загрузки в вакууме регулятор записывает состояние температуры актуальной и мощности отопления и сравнивает их предыдущим процессом регулировки отопления. Из данных он вычислит  отклонение отв идеальных величин и записывает их в память для последующих анализов. Указанная функция используется для отладки PID регулятора нагрева печи непосредственно в течении регуляции отопления. Таким способом достигается более точная регуляция отопления печи. В конечном итоге является данная функция идеальным примером во время, когда будет персонал осуществлять одинаковые программы с одинаковым объемом загрузки. В таком случае регулятор создает теоретически после второй или третьей загрузки идеальную регуляционную кривую и регуляция будет производится намного точнее.

3

Третьим модулем регулятора являются так называемые GSD функции.  Они очень хорошо оправдываются при каком-то условном процессе. Данный модуль содержит несколько функцией. Первый обозначен, как GSD Trend.  Эта функция используется только в режиме увеличения или понижения температуры. В ней заложена пороговая константа, в  °C. Функция заключается в контроле актуальной и требуемой температуры. Если разница между этими двумя температурами больше, чем заложенная константа, приостановится таймер управления процессом повышения или понижения температуры и создается так наз. выдержка, которая используется для отладки актуальной температуры к заданной. После сравнения температур таймер опять включается и продолжает в программе.

4

Следующая функция GSD Thermo. Используется только в случае, если вакуумная печь оборудована больше, чем одним измерительным датчиком. Функция почти аналогичная, как в предыдущем пункте, но здесь она используется для сравнивания разницы между этими датчиками. Главная выгода функции заключается в управляемой регуляции нагрева загрузки. Второй термодатчик вкладывается в середину загрузки и тем проверяется разница между наружной стороной загрузки (ближе к отопительным элементам и поэтому нагревается быстрее) и внутренней стороной загрузки. Если разница между датчиками увеличится больше, чем настроенная граница,  приостановится таймер управление температурой и образуется выдержка, в которой система ждет, пока температура внутри загрузки не приблизится к температуре наружной части и так будет гарантирован идеальный нагрев.

Третьей функцией регуляционного модуля есть GSD vakuum, которая опять использует управление таймером. Она проверяет состояние вакуума в процессе нагрева загрузки. Эта функция используется главным образом в программе капиллярной пайки, когда при определенной температуре из пайки  могут испаряться газы или примеси, которые ухудшают качество вакуума в камере. Это бы могло быть причиной  некачественной пайки загрузки или даже оксидирования.  Поэтому здесь в указанную функцию включится константа вакуума. В случае ухудшения качества давления в камере останавливается таймер, образуется  выдержка, или происходит даже управляемое понижение температуры на основе ухудшения температуры на основе ухудшения давления в камере.

Четвертой функцией, которая содержит регулятор, есть PK Limiter.  Отличается тем, что в течение изменения режима регуляции (нарастание, задержка, понижение) вызывает выброс мощности нагрева загрузки и тем сильно помогает регуляции.

Например если будет заканчиваться  режим регулированного повышения и начинается выдержка, может случиться, что произойдет выброс актуальной температуры на несколько градусов. Этот момент может отрицательно повлиять на качество процесса. Указанная функция непосредственно перед переходом из режима в режим существенно повлияет на мощность и тем происходит более плавная регуляция температуры с минимальным отклонением выброса температуры. Функция используется также в переходе режима управляемого понижения в выдержку.

 5

Последней функцией регулятора является настройка приоритета регуляции. Возможно настроить опережающую величину в течение перехода из шага в шаг. Здесь настраивается или температура или время. Что касается температуры, шаг будет переключаться только в момент, когда будет достигнута требуемая температура. Если настроено время, переключение шага осуществляется только в момент достижения время шага несмотря на актуальную температуру.

Последним модулем регулятора является PID Sampling. Используется прежде всего для отладки PID регулятора отопления при определенных условиях. В течение регуляции температуры плавно подрегулируются все PID величины, на основе актуальной и заданной температуры и величины полученной от функции  Memory Filter. Все величины математически обрабатываются и так получаются  величины  температурной абсорбции и проводимости загрузки. Величины потом с успехом используются для более точной регуляции нагрева.

ВОЗМОЖНОСТИ ПОСЛЕДУЮЩИХ МОДИФИКАЦИЙ ВАКУУМНЫХ ПЕЧЕЙ

1) Электронный припуск инертного газа. Переделка заключается в дополнении вакуумной аппаратуры дополнительного клапана, при помощи которого возможно тонко и плавно пускать маленький объем среды в рабочую камеру. Функция с успехом используется для капиллярной пайки, где в течении нагрева загрузки и следующей пайке пускает в камеру инертный газ (аргон, азот, и другие) и тем снижается уровень вакуума в камере. Из-за этого не возникает испарение пайки или загрузки. Процесс регуляции полностью автоматический. Настройка осуществляется в рецептуре задания рабочего вакуума для каждого шага отдельно.

2) Емкостной вакуумный измеритель. Переделка осуществляется подключением емкостного измерителя в вакуумную аппаратуру. Он служит для точного мониторинга давления в рабочей камере, и также в состоянии с нагревом. Оригинальные вакуумные измерители с обозначением Pirani работают на принципе охлаждения вольфрамной проволоки, но, при высшей температуре избыточных газов происходит искажение. Измеритель реагирует также по разному на разные газы.  По указанной причине для данного измерения более пригоден  емкостный измеритель или Pizzo измеритель.

3) Дополнительный измерительный зонд температуры.  Переделка представляет дополнение измерительного термоэлемента в рабочую камеру. В нижней части рабочей камеры помещен электрический ввод, в который возможно подключить два дополнительных термоэлемента. Они могут служить для измерения температуры загрузки в некоторых позициях, например внутри загрузки. Данная переделка необходима в случае, если заказчик хочет использовать функцию  GSD Thermo в регуляторе

4)  Отопительная запасная молибденовая корзина

5)  Охлаждающее оборудование для печи PZ 810.

Предложение представляет промышленную охлаждающую единицу, которая специально спроектирована для охлаждения вакуумной печи PZ 810. Указанное оборудование экономит пользователю не только расходы на питьевую воду, но и также расходы на ремонты, которые связаны с засорением охлаждающих округов водяным камнем.

Охладитель в шкафном исполнении и состоит из одного самостоятельного охлаждающего округа, в котором рекомендуем использовать очищенную воду. Она не позволяет засорение водяного округа охлаждающего оборудования. Охладитель оборудован герметическим компрессором, воздухом охлаждаемым конденсатором и алюминиевыми охлаждающими ребрами, фильтром/сушилкой, выключателями давления для высокого и низкого давления охлаждающей воды и окошком для наблюдения за охлаждающим медиумом R407c. Охлаждающий контур состоит из аккумуляционной емкости, обменника  вода/охладитель, насоса, обхода обменника, предохранительного клапана, расширительного клапана, и тд.

Управление охладителем и настройка задающих величин автоматическая.

Технические параметры:

Охлаждающая мощность охладителя 16,42 кВт
Мощность 5,32 кВт
Макс. температура среды 32оС
Температура воды на выходе 18оС
Электрическое подключение 380-415 В/3/50 Гц
Объем аккумуляционной емкости 110 л
Общая мощность оборудования 6,3 кВт
Размеры  ш х гл х в 743 х 1090 х 1350 мм
Вес 215 кг
Присоединительные размеры  вход/выход воды 1“
Срок поставки 3 месяца
Гарантийный срок 1        год

6)     Приезд техников для введения оборудования в эксплуатацию и обучение

Количество техников: 1 – электрик, 1- механик

Количество дней: шесть (два дня — дорога, четыре дня – работа)

В цене включено: суточные, работа, а/билеты, страхование, транспорт в аэропорт в Чехии, визы

Заказчик оплачивает: гостиница, питание транспорт на месте

 

Вакуумное магнетронноe устройство напыления

Магнетронное оборудование напыления используется для нанесения тонких слоев на изделия из стекла. Включает в себя два несбалансированных магнетрона для распыления чистых металлов или сплавов. Весь процесс осуществляется холодным. Можно создать полупроницаемый и непроницаемый зеркальный слой  с точностью до 0,1 нм. Частью также является технология PACVD, которая используется для защиты от коррозии нанесенных слоев.

1

Весь процесс во всех отношениях экологический и полностью автоматизирован. Ходы процессов осуществляются на основе рецептур, поставляемых технологом или обученным персоналом.
Устройство представляет собой одну камеру, которая имеет цилиндрическую форму в вертикальной оси. Внутри находится планетарное приспособление, на которое кладется загрузка. Она благодаря двойному вращению непрерывного покрывается.

 

Лабораторное магнетронное оборудование для напыления

Оборудование, используемое для нанесения тонких слоев на субстрат, может работать максимально из трех магнетронов. Главное преимущество этого решения состоит в точности образования  реактивного покрытия, которое является образованием окислов или нитридов в выбранной структуре слоев (рутил, анатаз). Возможно создавать несколько слоев на один субстрат загрузки  или создавать точные сплавы при распылении двух металлов одновременно в выбранном соотношении.

1

 Устройство включает в себя стол с подогревом, где возможно в течении процесса точно установить ход разгона, задержку или падение температуры. Это очень выгодно использовать для адгезии слоя или при отжиге.
Несомненной необходимостью этого оборудования является точное измерение толщины слоя и скорости нанесения.

 

Оборудование для напыления NI 1200

Описание NI 1200
Вакуумное оборудование предназначено для нанесения тонких пленок на металлические и неметаллические материалы в электротехнике, машиностроении или декоративных аксессуаров (стекло, ювелирные изделия, керамика и т.д.) материалов — алюминия, меди, титана, хрома, серебра, кремния, золота и других чистых металлов.
Техническое описание: Вакуумное оборудование однокамерное с рабочим пространством внутри цилиндрического реципиента с выпуклыми крышками с вертикальной осью.
На верхней крышке два смотровых отверстий для наблюдения за процессом и фланец для возможного монтажа клапана для ручного впуска рабочего газа.Рабочее пространство доступно после снятия верхней крышки гидравлическим оборудованием.

1

Стандартное технологическое оборудование рабочего пространства содержит четыре резисторных испарителей, высоковольтный коронирующий электрод для ионной очистки и вращающийся приспособление для размещения субстрата. Вращающийся субстрат вращается вдоль вертикальной оси, и его скорость можно плавно регулировать.

Рабочее пространство откачивается набором вакуумных насосов, включающий роторный масляный насос и насос Рутса, чтобы гарантировать низкий вакуум и двух диффузионных насосов и холодильных колен для гарантии рабочего вакуума.
Все части изготовлены из нержавеющей стали для обеспечения чистоты и правильной  функции процесса напыления.

Весь рабочий цикл управляется системой управления PLC и  может быть установлена  автоматическая или полуавтоматическая эксплуатация в соответствии с выбранной технологией процесса.
Способ управления и мониторинга процесса осуществляется с помощью ЖК-экрана (LCD), на котором расположена сенсорная панель (Touch Screen).

Программное обеспечение полностью выполнено в графическом режиме для удобного пользования. Управляющая программа состоит из четырех основных частей. Первая часть программы управляет и мониторит эвакуацию камеры и ионную очистку субстрата. Вторая часть управляет процессом напыления. В третьей части можно найти базу данных технологических процессов и их редактирования. Данные хранятся даже после выключения питания и возможно их обеспечить паролем. Наконец, в четвертой части программы можно найти комплектную производственную книжку. Эта книжка записывает каждый цикл отдельно и может быть установлена либо по выбранному номеру или по дате.

Технические характеристики

Максимальная  мощность                                                     20 кВт
Объем камеры                                                                       диаметр камеры 1200 мм
Дегазированное оборудование                                           1х10-4 Па
Охлаждающая вода                                                              1 м3 / час
Вес                                                                                         1900 кг
Размеры                                                                                 ш-1420, гл-1800, в-1600 мм
При поднятом реципиенте                                                    в- 2400 мм

Сервисные условия
Производитель предоставляет гарантийное и послегарантийное обслуживание поставляемого оборудования.
Гарантийный срок —  1 год.
Срок поставки — до пяти месяцев.

 

Однокамерное оборудование для напыления NP1200/1000

 1

 

Назначение и использование
Оборудование вакуумного напыления предназначено для нанесения тонких слоев материала с помощью тлеющего разряда. Принцип состоит в бомбардировании мишеня  ионизированным  инертным  газом и последующим распылением молекул мишеня в вакуумную рабочую камеру, в которой находится субстар для напыления.  Весь процесс производится при пониженном давлении порядка в единицах Паскаль.

Описание оборудования
Оборудование вакуумного напыления представляет одну камеру в форме цилиндра в вертикальной оси. Внутри имеются отверстия для установки поворотного стола, высоковольтные вводы и кронштейны для монтажа щита пластину. Вход в рабочую камеру обеспечен дверьми из передней части оборудования, на которой расположены два магнетрона, из которых может  индивидуально напыляться материал для покрытия. Все устройство полностью герметичным корпусом для того, чтобы защитить все элементы и устройства  оборудования напыления.

Описание вакуумного оборудования
Устройство напыления оснащено трехступенчатым ​​насосным агрегатом. В основном оборудовании машины ротационный масляный насос DUO 120, насос Ротса VKP1000 и два диффузионных насосов PDA400-W фирмы PFEIFFER. Распределение клапанов вакуума сделано из нержавеющей стали фирмы VAT, которые разработаны для промышленного использования и пневматически управляемые. Измерения вакуума обеспечивают три типа вакуумных датчиков. Для низких уровней вакуума датчики типа PIRANIO. Для высоких уровней вакуума оборудование оснащено ионизационным датчиком PENNIG. Для измерения вакуума в режиме напыления используется емкостной датчик. Все датчики от фирмы PFEIFFER.

2

Описание процесса нанесения покрытия
Оборудование напыления NP1200/1000 позволяет наносить покрытие двумя технологиями — PVD и PECVD. Технология PVD — это магнетронное напыление мишеней из проводящего материала. Магнетроны размещены на входе в рабочую камеру с высотой 900 мм и шириной 125 мм. Устройство включает в себя два таких магнетрона. Они индивидуально питаются от источника постоянного тока 5 кВт. Основные конфигурация оборудования позволяет напылять всегда из одного магнетрона, который можно переключать в любое время. Это значит, что возможно на субстрат наносить сначала первый слой, а затем второй.

Вторая технология PECVD  представляет нанесения слоев из  полимерных пар при помощи холодной плазмы. Устройство оснащено контейнером с подогревом  для полимерного вещество,  в котором держится точный уровень рабочего вакуума и температуры, чтобы происходило стабильное испарение. Для обеспечения  плазмы используется высоковольтный источник  с плавной регулировкой мощности.

3

Описание системы управления
Система управления устройством напыления обеспечивает полный автоматизированный контроль всех процессов машины, как эвакуация камеры, так и процессы покрытия. Состоит из PLC системы для управления оборудования и цветного 15 » ЖК-дисплея с сенсорной клавиатурой для связи с оператором оборудования.

Программное обеспечения оборудования предлагает пользователю высоко  универсальную и причем простую настройку рецептур, полное графическое изображение всех величин  и процессов, а также подробную производственную и сервисную книжку. Все эти возможности распределены в  несколько упорядоченных окон,  чтобы оператор был простым и быстрым способом информирован о состоянии устройства или о процессах.
Следующая возможность системы управления является подключение  при помощи сети Ethernet и соединение с удаленным управляющим центром. Это позволяет оператору  блокировать некоторые функции настройки, чтобы у  него не было доступа и возможность изменить некоторые настройки.

4

 

Возможности оборудования
Основными характеристиками оборудования вакуумного напыления являются:
1.    Эвакуация рабочей камеры на выбраный уровень вакуума
2.    Ионизационная очистка или активация поверхности субстрата
3.    Магнетронное покрытие
4.    Покрытие методом PECVD
5.    Автоматический режим работы
Дополнительные возможности оборудования:
6.    Реактивное покрытие
7.    Покрытие больших металлов одноразово в выбранном соотношении
8.    Реактивное покрытие методом PECVD
9.    Нагрев субстара
10.    Измерение толщины и скорости покрытия (точность 0,1 нм)

В основном исполнении оборудования рабочая камера с двумя магнетронами.

Технические характеристики
Размер рабочей камеры………………………………………диаметр 1200 x 1000 мм
Размер оборудования (в х гл х ш) …………………………. 1700 x 2400 х 2030 мм
Вес …………………………………………………………………………………………….. 2400 кг
Входная мощность оборудования……………………………. 3 х 400В/50Гц, 40 кВт
Контур охлаждения ………………………………………………………………… 15 л / мин

Описание расширенных возможностей оборудования
Вакуумное оборудование напыления стандартно включает два магнетрона для каждого покрытия из электропроводящих материалов . Оно также включает ионизационный анод для очистки субстрата или для покрытия методом PECVD . Управление всеми процессами автоматическое. Оборудование напыления в этой версии дает больше возможности расширения, которое кроме вакуумного агрегата  может быть дополнено в любое время.

Усиленный вариант эвакуационного агрегата — это изменение может быть сделано только после консультации с поставщиком. Касается откачки высокого вакуума  диффузионными насосами, что вместо типов PDA400 -W будут два диффузионных насоса PDA501–W и тем самым увеличится скорость откачки от 10000 л/сек до 15000 л/сек.

Второй источник для напыления — добавление второго источника для покрытия подложки из двух магнетронов в один момент. Это приносит большую эффективность покрытия (быстрее осаждение), или  с различными материалами для создания новых сплавов (осаждением с различными мощностями на мишеня).

Реактивное покрытие — это набор клапанов разведение реактивного газа в рабочую камеру. Реактивный процесс может быть применен как PVD, так и PECVD технологии. Принцип заключается в добавлении не только инертного газа, а еще активного газа, и это может создать различные химически модифицированные поверхности (оксиды, нитриды, карбиды).

Кристальное измерение толщины слоя – в камеру устанавливается измерительная головка с кристаллом для мониторирования, который вибрирует и при осаждении искажает свою частоту. Частота измеряется и преобразуется в действительную толщину слоя. Кристальным измерителем также можно измерять скорость процесса покрытия. Благодаря указанному, возможно  настроить систему управления так, что бы  было возможно точно следить за установленной толщиной слоя в настроенной скорости. Прибор оснащен собственной калибровкой и точность измерений  - до 0,1 нм.

 

Компактнoe оборудование для подготовки охлаждающей воды

Оборудование используется для тепловой подготовки охлаждающей воды подключенного устройства. Оно способно удалять избыток тепла на основе замкнутого контура охлаждения. Возможно точно установить температуру охлаждающей воды в конкретном устройстве.

1

Устройство изготовлено в системе вода-вода и вода-воздух. Благодаря системе управления и техническому оборудовании работает полностью автоматизированным способом и работает в нескольких режимах. Стоит отметить режим дегазации подключенного устройства. Этот режим охлаждающую воду наоборот нагревает до заданной температуры и затем охлаждает. Он в основном используется в вакуумных устройствах, где при открытых вакуумных камерах должны убедиться, что на плоскостях камеры не образовалась роса и поэтому следовательно, не приводят к окислению  (оборудования напыления и распыления, вакуумные сушилки, печи).

+7 (499) 390-03-80

НУЖЕН СТАНОК, АБЗ, БСУ?
ПОЗВОНИТЕ ПРЯМО СЕЙЧАС!

    Translate to: